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  • 智能型HMDS真空系统(JS-HMDS90-AI)
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HMDS黏附机 光刻胶HMDS烘箱 HMDS疏水处理烘箱——光刻之增粘设备
来源: | 作者:隽思半导体设备部 | 发布时间: 2024-05-21 | 82 次浏览 | 分享到:

HMDS黏附机  光刻胶HMDS烘箱  HMDS疏水处理烘箱研发背景

       集成电路光刻工艺中常使用HMDS对晶圆衬底进行黏附处理,来提高光刻胶与衬底的黏附性,HMDS中文名六甲基二硅氮烷(Si(CH3)3)2NH,行业所要求纯度大于99.7%。


HMDS黏附机  光刻胶HMDS烘箱  HMDS疏水处理烘箱作用

      衬底在空气中易形成厚度为几个原子层的二氧化硅薄膜,由于其具有亲水性,会吸附空气中的水分到衬底表面。光刻胶涂层多为有机疏水材料,这就造成了光刻胶与衬底黏附性差。在实际生产中,常将HMDS雾化,并在特定的温度和压力条件下处理,来改变晶圆表面的亲水性。其原理可以简述为HMDS中的有机基团取代晶圆表面水分子羟基,使晶圆表面由亲水性变为疏水性。

HMDS黏附机  光刻胶HMDS烘箱  HMDS疏水处理烘箱实用性

       在光刻中,光刻胶的黏附效果受到光刻涂层,衬底材料,以及光刻工艺三方面的影响。HMDS的黏附处理不只是对硅基衬底有效。也用于其他衬底,诸如多晶硅,石英,太阳能电池片、金属、贵金属、蓝宝石、SiC(碳化硅)、磷化铟、GaN(氮化镓)、ZnO(氧化锌)、GaO(氧化镓)、金刚石等第三代半导体材料。

HMDS烘箱兼容2~12寸晶圆及碎片、方片等。