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坚膜烘箱 百级洁净烘箱 氮气无尘烘箱——光刻之坚膜设备
来源: | 作者:隽思半导体设备部 | 发布时间: 2024-05-21 | 103 次浏览 | 分享到:
坚膜烘箱 百级洁净烘箱 氮气无尘烘箱

坚膜烘箱 百级洁净烘箱 氮气无尘烘箱注意事项

坚膜就是通过加温烘烤使胶膜更加牢固的粘附在晶圆表面,并可以增加胶层的抗刻蚀能力的一道光刻胶工艺。

坚膜并不是一道必需工艺。如后续为刻蚀工艺,建议进行坚膜,来提高光刻胶的稳定性,如果后续 工艺为lift-off工艺,一般不建议进行坚膜工艺,因为坚膜后光刻胶稳定性提高,反而不利于剥离的进行。

另外,一定要注意坚膜的温度,过高的温度会光刻胶结构变形、融化甚至图形消失。

坚膜烘箱 百级洁净烘箱 氮气无尘烘箱光刻胶变化

1)热变形

非交联型光刻胶的结构,即显影后的正胶和图形反转胶结构在加热后的软化温度取决于前面软烘烤工艺。

2)溶剂变化

减少残留溶剂的含量实际上是匀胶工艺后前烘步骤的意义。然而,在厚胶工艺的情况下,即使是在推荐的前烘条件下,在靠近衬底附近的光刻胶中仍然包含相当高的溶剂。

3)光引发剂热分解

在正胶情况下,相当一部分光引发剂在120℃下 几分钟内就会分解。虽然在显影后不再需要光引发剂进行光反应,但在未曝光状态下,它有助于提高光刻胶膜在碱性环境中的稳定性,以及用于随后的湿法蚀刻步骤或在pH值为>7的溶液中进行的电镀工艺。

4)热交联

在正胶情况下,树脂在130℃-140℃下热交联强度逐渐增强,这可以显著提高光刻胶对碱性或有机溶剂的化学稳定性。

5)光刻胶脆性

在烘烤过程中,残余溶剂的含量进一步降低以至于光刻胶结构的弹性也随之降低,同时光刻胶结构与氧气反应,在120 -130℃左右开始光刻胶开始脆化。光刻胶和衬底材料的不同热膨胀系数不同会导致裂纹的产生。产生的这些光刻胶裂纹对后续湿法刻蚀与电镀的影响是非常不利的。

坚膜烘箱 百级洁净烘箱 氮气无尘烘箱工艺特点

如果必须做坚膜工艺,可以通过控制降温速度来减小裂纹的形成。例如,通过随炉子冷却来减小裂纹的产生。出于同样的原因,烘烤后的衬底应小心处理,并应避免变形,如衬底弯曲,这些对于PI胶做钝化层(PI固化炉)的应用显得尤为重要。

坚膜烘箱技术性能

全周激光满焊,SUS304#不锈钢电热产生器,防机台本身产生微尘;

采用特殊风道,水平送风,温度均匀性佳;

可定值运行,多段程序运行;

设备采用双腔室一体设计,独立控制,节省空间;

温度范围: RT+10~200、300/400℃;

温度均匀度:≤±1.5%℃;

洁净度:class100,适用洁净间;

设备尺寸:45*45*50(CM)

计时功能:0~ 99H99M可调;

降温方式:可选配

保温材料:超细陶瓷纤维;

隔 板:1-10层;