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  • 智能型HMDS真空系统(JS-HMDS90-AI)
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HMDS烘箱在太阳能电池片生产中的用途
来源: | 作者:隽思半导体设备部 | 发布时间: 2023-12-25 | 138 次浏览 | 分享到:


HMDS烘箱在太阳能电池片生产中的用途

太阳能电池片光刻蚀刻加工的基本原理:

1. 光敏材料涂覆:首先,在待加工的基底表面涂覆一层光敏感材料(例如光刻胶)。该材料对于特定波长的光会发生化学或物理变化。涂覆的光敏材料形成了一个称为“光刻胶层”的薄膜。

2. 光罩设计和准备

3. 曝光

4. 图案形成

5. 刻蚀。

然而在光敏材料涂覆前需要将电池片基底做疏水性处理,该处理工艺需要借助HMDS增粘剂。一般通过气相沉积的方法将HMDS处理在衬底表面。该设备为上海隽思HMDS烘箱

HMDS烘箱的性能:

温度范围:RT+10-200℃

真空度:≤1torr

操作界面:人机界面

工艺编辑:可储存5个配方

气体:N2进气阀,自动控制

容积:定制

产品兼容性:2~12寸晶圆及碎片、方片等


HMDS烘箱适用行业:MEMS、太阳能、电池片、滤波、放大、功率等器件,晶圆、玻璃、贵金属,SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO(氧化锌)、GaO(氧化镓)、金刚石等第三代半导体材料。