个产品,

对待每一

做到极致认真

每一个零件

每一组数据

  • 智能型HMDS真空系统(JS-HMDS90-AI)
  • 洁净烘箱,百级无尘烘箱
  • 氮气烘箱,精密充氮烘箱
  • LCP热处理烘箱,LCP纤维氮气烘箱
  • 热风循环真空烘箱,高温热风真空烤箱
  • HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )
  • 智能型无尘无氧烘箱(PI烤箱)
  • 真空无氧固化炉,高温无氧烘箱
  • 精密烤胶台,高精度烘胶机
  • 超低温试验箱,零下-120度高低温箱
最新消息
热搜:HMDS烘箱 无尘烤箱 无氧烤箱

新  闻  动  态

 NEWS

HMDS预处理烘箱在光刻工艺中的重要作用
来源: | 作者:隽思半导体设备部 | 发布时间: 2023-12-13 | 146 次浏览 | 分享到:
HMDS预处理烘箱在光刻工艺中的重要作用为:增强光刻胶和衬底表面的粘附力。

HMDS预处理烘箱在光刻工艺中的重要作用为:增强光刻胶和衬底表面的粘附力。

光刻工艺中涂胶显影流程包括HMDS(六甲基二硅氮烷,增粘剂)预处理、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影和坚膜。

HMDS预处理作用:

增强光刻胶和衬底表面的粘附力;

实现方法:浸泡、涂覆、气相处理(即HMDS烘箱)等。

HMDS预处理烘箱

   JS-hmds90烘箱采用气相沉积的方法涂布HMDS化合物。HMDS烘箱在高温条件下,达到真空状态后开始涂布工艺,涂布完成后排出尾气,烘箱内部充入N2,达到常压后方可开门。

温度范围:RT+10-250℃

真空度:≤1torr

控制仪表:人机界面,一键运行

储液瓶:HMDS储液量1000ml 

真空泵:无油涡旋真空泵

数据处理:多个工艺方案,可修改并记录,使用数据可记录

保护装置: 低液位报警,HMDS药液泄漏报&警,超温保护并断开加热,超温保护,漏电保护,过热保护等




涂胶

作用:a.转移掩模版图形到衬底的介质b刻蚀工艺中保护衬底;实现方法:浸泡、旋转、喷雾、刷胶等:

前烘

b.蒸发溶剂;作用:a.增强粘附性实现方法:真空热板85~120C处理。

曝光

作用:将掩模版图形转移到衬底表面;实现方法:接触式、接近式、投影式。

后烘

作用:a.减少驻波效应

        b.使光刻胶更易溶于显影液:实现方法:热板或烘箱等110-130C处理。

显影作用:去除(未)曝光胶膜,保留图形实现方法:浸泡、旋转浸泡、旋转喷雾

坚膜

作用:a.进一步减少驻波效应 

        b.进一步增强抗刻蚀能力;实现方法:热板或坚膜烘箱等100-130C处理