一种电润湿显示器件用的下基板、电润湿显示器件及制备方法，包括以下步骤：

 第一步：在硅基片上整面沉积非金属的电极层 ；

第二步：在沉积有非金属电极层的硅基片上面均勻涂覆一层正性光阻，将光阻干燥后，曝光、显影、干燥，在硅基片上形成与预定的电极图案相同的光阻图案；

第三步：以形成的该光阻图案为掩膜，用蚀刻液将未被光阻覆盖的非金属电极层刻蚀 掉，然后剥离光阻，形成预定的电极图案；

第四步：在制作好电极图案的硅基片上面沉积介质层，将原制作 好的显示区域内的电极完全覆盖；

第五步：对介质层表面进行疏水性处理，处理过程在HMDS预处理烘箱中进行，在封闭的真空腔体内将HMDS气化后均勻涂覆在置于腔体内的样品表面，处理温度为100-200C ；

 第六步：在介质层上面涂覆正性光阻，用像素绝缘层的掩膜覆盖、曝光、显影、干燥，最 终形成像素绝缘层图案。

HMDS预处理烘箱工艺的作用

1.脱水烘烤，在成底膜和涂光刻胶之前必须进行脱水烘烤处理；一般在温度设定在150-200℃之间，在真空+充氮的气氛中处理效果更好。

2.HMDS涂覆，在系统真空状态下，将HMDS药液吸入系统内并气化，气化后的HMDS将均匀的涂覆在基地的表面。

3.坚膜烘烤，HMDS气化完成后，在系统内保持一定的时间，使得HMDS涂覆更加有效。

4.尾气排放，HMDS涂覆完成后排出剩余的气体，HMDS尾气处理。

HMDS预处理烘箱的应用：
用于除去硅片表面的污染物（颗粒、有机物、工艺残余、可动离子），除去水蒸气，使基底表面由亲水性变为疏水性，增强表面的黏附性（HMDS-六甲基二硅胺烷）。适用于硅片、麟化铟、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料。