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氮气烘箱在掩膜版工艺中的应用
来源: | 作者:隽思半导体设备部 | 发布时间: 2024-01-08 | 234 次浏览 | 分享到:
氮气烘箱,掩膜板烘箱

氮气烘箱,掩膜板烘箱应用

  在掩膜版的生产制造过程中,掩膜版基板在光阻涂布后会有一个烘烤的环节,又称为前烘。目的是用加热蒸发的方式祛除掩膜版上光阻中多余的溶剂,增强光阻与掩膜版基板之间的粘附力,并使光阻起到固化的作用;同时,涂覆光阻后的掩膜版在曝光显影后也需要做显影后烘,目的是祛除掩膜版上多余的水分、残留溶剂和消除驻波效应。

  掩膜版制作工艺,包括如下步骤:S1、涂胶:提供一光学高分子PC复合板材,在所述光学高分子PC复合板材表面旋涂抗反射中性密着层,在所述抗反射中性密着层上旋涂中性UV光刻胶;S2、光刻:通过光刻直写掩膜机对中性UV光刻胶进行激光曝光;S3、显影:将光刻后的光学高分子PC复合板材置于一显影槽进行浸泡显影,所述显影槽内设有显影液;S4、坚膜。

氮气烘箱,掩膜板烘箱性能

全周激光满焊,SUS304#不锈钢电热产生器,防机台本身产生微尘;

采用特殊风道,水平送风,温度均匀性佳;

可定值运行,多段程序运行;

设备采用双腔室一体设计,独立控制,节省空间;

温度范围: RT+10~200、300/400℃;

温度均匀度:≤±1.5℃;

洁净度:class100/1000,适用洁净间;

设备尺寸:定制

计时功能:0~ 99H99M可调,到温计时,计时完成蜂鸣并停止加热;

降温方式:可选配

保温材料:超细陶瓷纤维;

隔 板:1-10层,;

温度测量传感器:高精度铂电阻;