图像翻转烘箱 光刻图形反转设备工艺原理：
光刻图形反转是一种特殊的工艺，用于制作半导体器件。在曝光结束后，光刻胶中的图像与想要得到的图像是相反的，即曝光区域在显影后会形成孔洞而不是岛区。这种工艺主要用于制作孔洞结构，通过改变曝光区域和非曝光区域的相对分解率来实现。
图像翻转烘箱 光刻图形反转设备的应用：
光刻图形反转工艺主要用于剥离过程，特别是在柔性电极、电极的制作以及其他一些MEMS器件工艺中。通过底切侧壁形态，可以防止沉积的材料在光刻胶边缘和侧壁上形成连续薄膜，有助于获得干净的剥离光刻胶结构。
图像翻转烘箱 光刻图形反转设备的性能：
尺寸(可定制) | 内腔尺寸:450宽×450深×450高(mm)，外形尺寸:760×750×1500 (mm) |
材质 | 内箱采用SUS304不锈钢，外箱采用优质冷轧板静电喷塑 |
温度范围 | RT+50-250℃ |
温度分辨率 | 0.1℃ |
温度波动度 | ≤±1℃ |
操作模式 | 人机界面 |
升温速率 | ≤5℃/min |
气体 | 2路供气 |
真空度 | 0.1~100KPa |
电源及总功率 | AC220V±10% / 50HZ 总功率约2.8KW |
温度控制器 | 触摸屏微电脑温控器，可校准温度，PID 自整定等功能 |
搁板层数 | 不锈钢托盘2层 |
真空泵 | 涡旋干泵 |
腔门密封圈 | 采用耐高温硅橡胶密封圈，密封圈采用一体成型无缝加工 |
