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图像翻转烘箱 光刻图形反转设备
    发布时间: 2024-10-09 11:52    

 图像翻转烘箱  光刻图形反转设备工艺原理:

    光刻图形反转是一种特殊的工艺,用于制作‌半导体器件。在曝光结束后,光刻胶中的图像与想要得到的图像是相反的,即曝光区域在显影后会形成孔洞而不是岛区。这种工艺主要用于制作孔洞结构,通过改变曝光区域和非曝光区域的相对分解率来实现。

图像翻转烘箱  光刻图形反转设备的应用:

    光刻图形反转工艺主要用于剥离过程,特别是在柔性电极、电极的制作以及其他一些MEMS器件工艺中。通过底切侧壁形态,可以防止沉积的材料在光刻胶边缘和侧壁上形成连续薄膜,有助于获得干净的剥离光刻胶结构。

图像翻转烘箱  光刻图形反转设备的性能

尺寸(可定制)

内腔尺寸:450宽×450深×450高(mm),外形尺寸:760×750×1500 (mm)

  材质

内箱采用SUS304不锈钢,外箱采用优质冷轧板静电喷塑

温度范围

RT+50-250℃

温度分辨率

0.1℃

温度波动度

≤±1℃

操作模式

人机界面

升温速率

≤5℃/min

气体

2路供气

真空度

0.1~100KPa

电源及总功率 

AC220V±10% / 50HZ       总功率约2.8KW

温度控制器

触摸屏微电脑温控器,可校准温度,PID 自整定等功能

搁板层数

不锈钢托盘2层

真空泵

涡旋干泵

腔门密封圈

采用耐高温硅橡胶密封圈,密封圈采用一体成型无缝加工