等离子体增强硅烷气相沉积系统、亦称等离子体硅烷蒸镀系统技术是将低压气体放电形成的等离子体应用于化学气相沉积的技术。

等离子激发的化学气相沉积借助于真空环境下气体辉光放电产生的低温等离子体，增强了反应物质的化学活性，促进了气体间的化学反应，从而在低温下也能在基片上形成新的固体膜。

    等离子体增强硅烷气相沉积系统、等离子体硅烷蒸镀系统是将工件置于低气压辉光放电的阴极上，然后通入适当气体，在一定的温度下，利用化学反应和离子轰击相结合的过程，在工件表面获得涂层。其中包括一般化学气相沉积技术，再加上辉光放电的强化作用。  

   辉光放电是典型的自激发放电现象。这一放电最主要的特征是从阴极附近到克鲁克斯暗区的中场强很大。在阴极辉光区中，会发生比较剧烈的气体电离。同时发生阴极溅射，为沉积薄膜提供了清洁而活性高的表面。由于整个工件表面被辉光层均匀覆盖，使工件能得到均匀的加热。阴极的热能主要靠辉光放电中激发的中性粒子与阴极粒子碰撞所提供，一小部分离子的轰击也是阴极能量的来源。辉光放电的存在，使反应气氛得到活化，其中基本的活性粒子是离子和原子团，它们通过气相中电子—分子碰撞产生，或通过固体表面离子、电子、光子的碰撞所产生，因而整个沉积过程与只有热激活的过程有显著不同。以上这些作用在提高涂层的结合力、降低沉积温度、加快反应速度诸方面都创造了有利的条件。

等离子体增强硅烷气相沉积系统、等离子体硅烷蒸镀系统应用于 

航空航天新材料疏水处理、陶瓷纤维板材疏水处理、陶瓷纤维棉憎水剂蒸镀。

手机平板：抗指纹、防水处理等。

纳米压印：纳米压印脱模阶段，抗粘剂蒸镀工艺。

疏水层制备：生物基材表面、玻璃表面、微流控器件等硅烷偶联剂（氨丙基三乙氧基硅烷KH-550/570等、全氟辛基三氯硅烷、全氟癸基三甲氧基硅烷、OTS十八烷基三氯硅烷）镀膜等工艺。