纳米压印具有分辨率高（可达5纳米以下）、成本低、工艺简单等优势， 被列为下一代32nm节点光刻技术的有前景技术之一。其核心工艺包括模板制造、压印过程（模板处理、加压、脱模）及图形转移，涉及多种材料如模板材料、衬底材料和压印胶。纳米压印在半导体光电器件、存储器件、生物技术等领域广泛应用，如制备光子晶体、高密度存储器、DNA分析微阵列等。

疏水气相沉积设备 超疏水处理系统应用领域

纳米压印工艺：硬模板法制备超疏水表面的核心在于利用刚性结构模具精确复制微观形貌实际工作中常用阳极氧化铝(Anodic Aluminum Oxide)或硅(Silicon)模板其规整的纳米孔道能高效构筑表面微纳二级结构。采用 AAO模板配合聚二甲基硅氧烷(PDimethylsiloxane)进行纳米压印，脱模机（抗粘剂）气相沉积工艺。超疏水处理系统可达8次以上脱模。

自清洁表面：应用于建筑外墙、太阳能电池板、交通工具外壳等，可利用雨水实现自清洁，减少维护成本。

防冰与防霜：超疏水表面能显著延迟结冰时间并降低冰粘附强度，在航空、电网和制冷系统中有巨大应用潜力。

油水分离：超疏水/超亲油或多孔超疏水材料可用于高效分离油水混合物，在处理工业含油废水和海洋漏油事故中作用关键。

金属防腐：超疏水涂层能有效阻隔水、氧气及腐蚀性离子（如Cl⁻）与金属基体接触，是一种绿色高效的金属防护策略。

船舶减阻：超疏水表面形成的 “空气垫” 可减小船体与水的接触面积，航行阻力降低 20%~30%，显著节省能耗。

  疏水气相沉积设备 超疏水处理系统同时应用于硅烷偶联剂镀膜，增粘剂气相沉积，脱模剂蒸镀等工艺，Plasma等离子体气相沉积系统