判断亲疏水性的核心标准是 “接触角”—— 当水滴落在晶圆表面，接触角小于 90°就是亲水，水会像在玻璃上一样铺展开，形成均匀水膜；接触角大于 90° 就是疏水，水会像在荷叶上一样聚成水珠，很难铺开。这个简单的判断标准，却直接对应着晶圆表面的化学状态：亲水表面大多富含羟基（-OH）、羧基等极性基团，能和水分子形成氢键，相当于 “和水亲近”；疏水表面则以非极性基团或单质硅为主，无法和水分子有效作用，相当于 “排斥水”。晶圆表面亲疏水性的控制精度，直接影响湿法清洗的杂质去除率和蚀刻工艺的均匀性，是制约先进制程良率的关键因素之一。

  在半导体工艺中，最典型的亲疏水性转换，就藏在核心的清洗流程里 ——SC1 处理造 “亲水表面”，疏水处理蒸镀机（偶联剂处理）造 “疏水表面”，两者的搭配更是工艺精髓。先说说 SC1 清洗（氨水 - 双氧水 - 去离子水混合液）：它的核心作用是去除晶圆表面的有机污染物和金属杂质，同时会在硅片表面氧化形成一层极薄的氧化硅（SiO₂）膜。这层氧化硅表面布满羟基，属于典型的亲水表面，接触角通常在 50°-70°之间。这种亲水特性的好处很直接：清洗液能在晶圆表面均匀铺展，不会出现清洗死角，同时后续的去离子水漂洗时，水膜能带走残留的污染物，让清洗更彻底。

  还要注意，亲疏水性是相对的，不是绝对的。比如同一片晶圆，在干燥环境下可能表现为疏水，但在高湿度环境中，表面吸附水汽后会逐渐呈现弱亲水特性；再比如通过等离子清洗机处理，能在疏水的硅表面引入极性基团，快速转换为亲水表面。

疏水处理蒸镀机适用材料

 纳米压印抗粘层制备、硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、防指纹、蓝宝石、晶圆、航空陶瓷新材、陶瓷介孔新材料、陶瓷纤维保温棉、保温棉卷材等材料。