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HMDS真空烘箱,HMDS处理系统的药液泄漏处理方法
来源: | 作者:HMDS烘箱事业部 | 发布时间: 2017-06-16 | 868 次浏览 | 分享到:

HMDS真空烘箱,HMDS处理系统中HMDS泄漏处理方法


1.在污染区尚未完全清理干净前,限制人员接近该区。

2.确定清理工作是由受过训练的人员负责。

3.穿戴适当的个人防护装备。

4.对该区域进行通风换气。

环境注意事项:抽气通风,移走撤离关闭所有可能之热源、火星、火花与火焰等之引火源与点火装置,若大量泄漏时先将泄漏区围堵避免扩散。

HMDS清理方法:

少量泄漏时:以惰性吸收/吸附材料吸取泄漏物。

大量泄漏时:将泄漏区域围堵,小心地道引将泄漏物抽取回收集桶。

隽思HMDS真空烘箱,HMDS处理系统主要用途:

  在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

HMDS真空烘箱,HMDS处理系统技术参数:

电源电压:AC 220V±10%/50Hz±2%

输入功率:2200W

温度范围:RT+10℃-250℃

温度分辨率:0.1℃

温度波动度:±1℃

达到真空度:133Pa1torr)

工作室尺寸(mm):450*450*450,550*550*350(可定做)

隽思HMDS真空烘箱,上海隽思HMDS处理系统特点:

1、预处理性能更好

2、处理更加均匀

3、效率高

4、更加节省药液

5、更加环保和安全   

6、低液报警装置

7、可自动吸取HMDS功能,

8、可自动添加HMDS功能

9、HMDS药液泄漏报警功能


HMDS安全处置与储存方法:

处置:HMDS易产生静电,搬运时将所有设备与容器适当接地,并须固定牢固,避免吸入蒸气及接触眼睛与皮肤。

存储:置于阴凉、干燥、通风处、紧盖容器,远离各种可能之热源、火星、火花与火焰等之引火源与点火装置,避免吸入蒸气及接触眼睛与皮肤。