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坚膜烘箱,氮气坚膜烘箱在芯片工艺中的用途
来源: | 作者:隽思半导体设备部 | 发布时间: 2023-09-14 | 710 次浏览 | 分享到:
坚膜烘箱的作用是在一定的温度下,对显影后的衬底进行烘焙。这将使光刻胶的表面在表面张力的作用下而圆滑化,并使光刻胶层中的缺陷因光刻胶表面的圆滑化而减少,并可借此修正光刻胶图形的边缘轮廓。

坚膜烘箱,氮气坚膜烘箱的用途

       坚膜烘箱的作用是在一定的温度下,对显影后的衬底进行烘焙。 其的主要作用是除去光刻胶中剩余的溶剂,增强光刻胶对硅片表面的附着力,同时提高光刻胶在刻蚀和离子注人过程中的抗蚀性和保护能力。这将使光刻胶的表面在表面张力的作用下而圆滑化,并使光刻胶层中的缺陷因光刻胶表面的圆滑化而减少,并可借此修正光刻胶图形的边缘轮廓。

坚膜烘箱,氮气坚膜烘箱技术性能:

       通过坚膜,光刻胶的附着力会得到提高,这是由于除掉了光刻胶中的溶剂,同时也是热融效应作用的结果,因为热融效应可以使光刻胶与硅片之间的接触面积达到最大。较高的坚膜温度可使坚膜后光刻胶中的溶剂含量更少,但增加了去胶时的困难。     

温度范围:RT~250℃;
均匀度:±2%℃;    

温度波动度:±0.5℃(空载)        
温控精度:±0.1℃;   

洁净度:Class100; 

计时范围:99H99M;   

气体氛围:N2;

内部尺寸(mm):

450×450×450

500×500×550

600×700×800(可定制)