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隽思仪器HMDS预处理系统,无尘烤箱,无氧烘箱等产品已完全具有SECS/GEM通讯功能
来源: | 作者:隽思仪器半导体设备事业部 | 发布时间: 2018-04-25 | 727 次浏览 | 分享到:

    随着晶圆尺寸不断加大,晶圆加工对生产自动化的要求不断提高,集束制造设备逐渐成为主流加工设备。集束设备是将数个有相关性,但不相同的制造机台聚集在一起成为一个生产设备。为了解决集束型设备在控制上所面临的整合问题,国际半导体设备及材料协会(SEMI)制定了的集束型设备的软件通信协议标准SECS/GEM来发展控制软件,实现软件的标准化。目前隽思仪器HMDS预处理系统,无尘烤箱,无氧烘箱等产品已完全具有SECS/GEM通讯功能,我们坚信我们的产品能为中国智能制造提供强有力的产品支持,我们将竭尽全力以最好的产品和服务满足客户的需求。
具有SECS/GEM的HMDS预处理系统
  HMDS蒸镀就是利用惰性气体(例如氮气)带着HMDS的蒸汽通过芯片表面,而在芯片表面形成一层薄膜。其目的在于:A.消除芯片表面的微量水分。B.防止空气中的水汽再次吸附于晶面C.增加光阻剂(尤其是正光阻)对于晶面的附着能力,进而减少在此后之显影过程中产生掀起,或是在蚀刻时产生了“Undercutting”的现象。目前在规范中规定于HMDS蒸镀完4小时内需上光阻以确保其功能。

   将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

具有SECS/GEM的HMDS预处理系统技术参数

Ø 通讯协议:SECS / GEM协议

Ø 温度范围:RT+10-250℃

Ø 温度分辨率:0.1℃

Ø 温度波动度:≤±0.5

Ø 真空度:≤133pa(1torr)

Ø 洁净度:class 100,设备采用无尘材料,适用100级光刻间净化环境

Ø 电源及总功率:AC 220V/380V±10% / 50HZ         

Ø 控制仪表;人机界面

Ø 搁板层数:2层

Ø HMDS控制:可控制HMDS药液的添加量

Ø 真空泵: 旋片式油泵或进口无油泵

Ø 保护装置:紧急停止,HMDS药液泄漏报警装置,HMDS低液位报警,HMDS自动添加,超温保护,漏电保护,过热保护等