个产品,

对待每一

做到极致认真

每一个零件

每一组数据

  • 智能型HMDS真空系统(JS-HMDS90-AI)
  • 洁净烘箱,百级无尘烘箱
  • 氮气烘箱,精密充氮烘箱
  • LCP热处理烘箱,LCP纤维氮气烘箱
  • 热风循环真空烘箱,高温热风真空烤箱
  • HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )
  • 智能型无尘无氧烘箱(PI烤箱)
  • 真空无氧固化炉,高温无氧烘箱
  • 精密烤胶台,高精度烘胶机
  • 超低温试验箱,零下-120度高低温箱
最新消息
热搜:HMDS烘箱 无尘烤箱 无氧烤箱

新  闻  动  态

 NEWS

SiC功率器件(HMDS烘箱)的性能优势
来源: | 作者:隽思半导体设备部 | 发布时间: 2024-04-17 | 64 次浏览 | 分享到:


SiC 是目前发展最成熟的宽禁带半导体材料,近几年,SiC功率器件HMDS烘箱)得到越来越多的商业化应用,在光伏、风电、电动汽车及轨道交通等中高功率电力系统应用上具有巨大的优势。例如电动汽车使用 SiC模块,其体积减小到原来的五分之一。SiC 肖特基二极管广泛应用于开关电源、不间断电源、光伏逆变器等中高功率领域,显著减少电路损耗,提高工作频率,减小电感等元件体积,提高系统功率密度。

以 SiC 为代表的宽禁带半导体功率器件,具有更小的导通电阻、更快的开关速度和更高的阻断电压,为电源技术提供了难得的发展机遇,采用宽禁带半导体器件,可以实现更高的变换效率,更高的功率密度,更高的可靠性。

以 SiC 材料为代表的宽禁带半导体因其具有高耐压、低损耗、高效率等优异特性,被视为“理想器件”而备受期待。在攻克 SiC 功率器件后,将转向实现兆赫兹电源的系列问题,如磁性器件高频化设计、磁集成技术、高频大功率电源电磁兼容技术等,由此将带来电源技术的突破,真正实现高性能、微型化的新一代宇航电源。功率开关器件是推动电源技术跨越式发展的基石,SiC功率器件HMDS烘箱)的出现将推动电源技术更新换代,再创辉煌,由此将带来宇航电源技术和产品的全面革新,引领宇航电源技术的发展,实现更小的体积和质量、更优异的性能、更大的功率和更高的可靠性,从而助力整个航天技术的发展。

SiC功率器件(HMDS烘箱)用途:

光刻是半导体制造过程中不可或缺的一部分。它用于描绘代表硅晶片表面特定器件或电路结构的图案。这些图案由光刻胶掩模制成,可保护其下方的基板免受后续处理。未受保护表面的物理或电气特性会被各种类型的工艺步骤改变,例如蚀刻、沉积、离子注入、溅射等。这个循环重复多次,直到完成整个器件。光刻是一个耗时且昂贵的过程。附着力不足通常会导致 PR 翘起、图案变形,在剥离抗蚀剂后需要再次重复该过程。如果 JS-HMDS90 烘箱蒸汽底漆工艺可以在两周内消除一次光刻返工工艺,因为与使用涂布机轨道的 HMDS 底漆相比,它们具有优异的附着力,这将为任何晶圆厂节省大量成本和时间。