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硅片清洗设备,全自动硅片清洗机
    发布时间: 2012-04-21 10:15    
硅片清洗设备,全自动硅片清洗机的重要性:
      半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等,引起严重漏电;颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等,会导致各种缺陷。
硅片清洗设备,全自动硅片清洗机的应用:
      集成电路,MEMS器件,微波器件,先进封装等工艺。
去胶清洗设备,显影清洗设备,酸碱刻蚀机。也可用于零部件清洗,石英管道清洗,外延片清洗(砷化镓,氮化镓,碳化硅,铌酸锂等
硅片清洗设备,全自动硅片清洗机的特点:
       全自动硅片清洗设备电气控制是以PLC、触摸屏为核心实现硅片清洗的自动化。介绍了该设备在PLC控制方面的技术改进,包括对机械臂的运动控制方式、工艺适应性以及安全性能更好。晶硅料的酸腐蚀、清洗处理。用户操作人员手动上料后,手动酸腐蚀后,全过程自动化控制,减少人工干预。设备具有自动化程度高,运行成本低,生产效率高,性能稳定,安全可靠等特点。